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在過去的幾年里,，半導(dǎo)體存儲器變得越來越重要，需求也越來越大,。這是因?yàn)樗�在第四次工業(yè)革命背后的技術(shù)發(fā)展中發(fā)揮著重要作用——例如大數(shù)據(jù),、人工智能 (AI)、物聯(lián)網(wǎng) (IoT),、智能工廠和自動駕駛汽車等,。雖然預(yù)測表明未來會有更多的增長，但也有推動超越現(xiàn)在能力的新創(chuàng)新技術(shù),。這將需要圍繞半導(dǎo)體存儲器的開發(fā)和大規(guī)模生產(chǎn)進(jìn)行創(chuàng)造性思考,。

幾代人以來，技術(shù)已經(jīng)發(fā)展到今天,。晶體管的名字來源于傳輸電阻,，是經(jīng)過長時(shí)間的技術(shù)發(fā)展發(fā)明出來的。1951年發(fā)明了結(jié)柵場效應(yīng)晶體管（JFET）1,，1958年將電阻,、電容2和晶體管放入硅半導(dǎo)體上的電路中，標(biāo)志著電子電路的誕生。1960 年代,，隨著集成電路 (IC) 3的實(shí)際應(yīng)用,，半導(dǎo)體技術(shù)得到了真正的進(jìn)步，開創(chuàng)了一個(gè)新的技術(shù)時(shí)代,。之后出現(xiàn)了由 Dawon Kahng 和 Mohamed Atalla 發(fā)明的金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管 (MOSFET) 4和互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體 (CMOS)5 . 此外,，集成電路使 CMOS 更小、更輕,、更復(fù)雜——這使得單個(gè)芯片可以容納更多的設(shè)備并且性能更好,。

1965 年，戈登·厄爾·摩爾 (Gordon Earle Moore) 提出了摩爾定律6,，該定律基于對微芯片中可以存儲的數(shù)據(jù)量每 18 個(gè)月翻一番的觀察結(jié)果,，重點(diǎn)關(guān)注微芯片技術(shù)的發(fā)展速度。該法起到了使計(jì)算機(jī)的處理速度和內(nèi)存量翻倍的效果,，并相對降低了其成本,。大多數(shù)公司由于經(jīng)濟(jì)原因未能遵循摩爾定律，因?yàn)楸仨殞⒏�多晶體管放置在更小的空間中以提高硅芯片的性能以及散熱挑戰(zhàn),。因此,，它已被駁回。

縱觀其歷史,，半導(dǎo)體行業(yè)一直在努力將模式最小化,。不可避免地，結(jié)果是更大的過程復(fù)雜性和更多的限制,，這反過來又導(dǎo)致新產(chǎn)品的開發(fā)時(shí)間更長,，增長更慢。

看來,，縮小規(guī)模的過程不僅面臨物理限制,，還面臨成本限制。工藝和極紫外 (EUV) 應(yīng)用層的總數(shù)都在增加,。動態(tài)隨機(jī)存取存儲器 (DRAM) 7已經(jīng)達(dá)到了縮減的極限,。3D NAND 通過在不改變其設(shè)計(jì)規(guī)則的情況下增加堆棧來繼續(xù)增加密度——這也將達(dá)到其極限。

采用EUV 8等新技術(shù)來克服技術(shù)限制,，并且正在開發(fā)材料以允許更多的按比例縮小,。采用 EUV 工藝減少了雙圖案技術(shù) (DPT) 工藝。然而,，在開發(fā)新產(chǎn)品時(shí),，EUV 和 DPT 9技術(shù)都被應(yīng)用，這意味著技術(shù)限制和成本正在增加,。

雖然 DRAM 和 NAND 一直在縮小和推進(jìn),，但兩者都將面臨與物理擴(kuò)展相關(guān)的限制,。將引入更多技術(shù)來解決這個(gè)問題，但也需要新的內(nèi)存技術(shù)來滿足市場需求,。

同時(shí),，晶圓尺寸已從 4 英寸向 5 英寸、6 英寸,、8 英寸和 12 英寸多樣化,，以從一個(gè)晶圓生產(chǎn)更多的半導(dǎo)體產(chǎn)品，在確保生產(chǎn)競爭力的同時(shí)也促進(jìn)了比特增長,。在第四次工業(yè)革命中,，高性能數(shù)據(jù)處理是關(guān)鍵，這意味著半導(dǎo)體將需要超高性能和超低功耗,。處理更高質(zhì)量數(shù)據(jù)（甚至更多數(shù)據(jù)）的需求正在激增,，這意味著從生產(chǎn)設(shè)備到零部件和材料再到技術(shù)創(chuàng)新的整個(gè)行業(yè)也必須繼續(xù)前進(jìn)，才能在要求苛刻,、快速增長的市場中競爭.

重要的是要記住,，半導(dǎo)體行業(yè)實(shí)際上是一個(gè)設(shè)備行業(yè)，這意味著需要對設(shè)施進(jìn)行大規(guī)模投資,，這也具有挑戰(zhàn)性,，因?yàn)樵撔袠I(yè)對供需變化也高度敏感。然而,，該行業(yè)的特點(diǎn)是產(chǎn)品生命周期短,，不同市場條件導(dǎo)致價(jià)格快速變化，以及對更精細(xì)生產(chǎn)流程的高需求,。

除了今天的挑戰(zhàn)之外,，還需要為下一代行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者做準(zhǔn)備，他們可以隨著需求的發(fā)展推動半導(dǎo)體技術(shù)朝著正確的方向發(fā)展,。為了實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)，該行業(yè)需要培養(yǎng)具有機(jī)構(gòu)知識的人才,，并培養(yǎng)能夠促進(jìn)創(chuàng)新的下一代,。

該行業(yè)由一系列需要深入了解的領(lǐng)域組成，這意味著半導(dǎo)體公司需要在中長期積極培養(yǎng)人才,，這涉及到培養(yǎng)專業(yè)知識同時(shí)培養(yǎng)新專家的艱巨任務(wù),。人們在學(xué)校學(xué)習(xí)和學(xué)習(xí)，但他們也通過自己完成任務(wù)而成長,。這意味著高級團(tuán)隊(duì)成員不僅必須完成今天的工作,，還必須指導(dǎo)他們的初級同事。短時(shí)間內(nèi)培訓(xùn)太多的基層員工,，不僅會影響高層員工的工作,，也會阻礙基層同事的成長,。

半導(dǎo)體行業(yè)需要有能力的專家在開發(fā)和大規(guī)模生產(chǎn)方面。專門從事設(shè)計(jì),、設(shè)備,、工藝和設(shè)備的工程師必須共同努力開發(fā)和制造新產(chǎn)品。生產(chǎn)設(shè)備的技術(shù)能力對于生產(chǎn)高質(zhì)量產(chǎn)品和高產(chǎn)量尤為重要,。

過去,，以理論為基礎(chǔ)的教育是為了培養(yǎng)技術(shù)能力，而設(shè)備制造工廠的受訓(xùn)人員數(shù)量最少,。但這帶來了另一組挑戰(zhàn),。使用實(shí)際生產(chǎn)中使用的昂貴設(shè)備進(jìn)行現(xiàn)場培訓(xùn)可能會導(dǎo)致意外損壞或增加維護(hù)時(shí)間——即設(shè)備將停止使用的時(shí)間。雖然停電可能會對生產(chǎn)力和整體效率產(chǎn)生負(fù)面影響,，但學(xué)員仍然必須學(xué)習(xí)如何操作設(shè)備并在現(xiàn)場練習(xí)以提高他們的能力,。

學(xué)員必須能夠自己操作設(shè)備并進(jìn)行現(xiàn)場實(shí)踐，以提高他們在設(shè)備和技術(shù)方面的實(shí)踐能力,。上述環(huán)境不允許這樣做,。最好的選擇是建立能夠進(jìn)行實(shí)踐培訓(xùn)和學(xué)習(xí)的基礎(chǔ)設(shè)施。SK海力士于2017年建立并改善內(nèi)部基礎(chǔ)設(shè)施,，提供現(xiàn)場培訓(xùn)和設(shè)備學(xué)習(xí),。SK Hynix代理商的設(shè)備和技術(shù)培訓(xùn)中心提供設(shè)備和基礎(chǔ)技術(shù)教育。

一是設(shè)備培訓(xùn)包括設(shè)備實(shí)操操作和VR教育內(nèi)容,。設(shè)備培訓(xùn)提供各領(lǐng)域的設(shè)備和動手培訓(xùn),，幫助學(xué)員提升設(shè)備能力。但是,，并非所有設(shè)備模型都可以容納,，這也意味著無法提供對它們的培訓(xùn)。因此,，VR 內(nèi)容提供了對許多模型的培訓(xùn),。我們還根據(jù)每位學(xué)員的能力為他們提供量身定制的 VR 內(nèi)容培訓(xùn)和設(shè)備練習(xí)。特別是,，我們目前正在開發(fā) VR 內(nèi)容,，以增強(qiáng)對新設(shè)備模型的教育能力并提高成本效率。一旦VR內(nèi)容完全開發(fā),，入門和中級設(shè)備培訓(xùn)課程,，

其次，我們已經(jīng)準(zhǔn)備并提供了有關(guān)構(gòu)成設(shè)備和系統(tǒng)的基本技術(shù)的培訓(xùn),。有九門基礎(chǔ)技術(shù)課程（泵,、冷卻器、ESC,、MFC,、傳感器,、射頻發(fā)生器、機(jī)器人和儀表洗滌器）有助于培訓(xùn)學(xué)員的能力建設(shè),。該課程將于 2022 年 1 月在我們的清州校區(qū)開設(shè),。

SK海力士制造技術(shù)人員裝備技術(shù)研修中心的成功成立，得益于建立該中心的高管和早期成員,、培訓(xùn)師和員工不斷改善我們的教育環(huán)境,。半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展將使我們能夠在未來容納更多更新的模型�,？紤]到這一點(diǎn),，該中心繼續(xù)發(fā)展并支持其所有成員的能力建設(shè)。

半導(dǎo)體行業(yè)需要誠信,、耐心,、協(xié)作和團(tuán)隊(duì)合作，尤其是因?yàn)槲磥硇庐a(chǎn)品的開發(fā)和生產(chǎn)將充滿挑戰(zhàn),。它需要誠信,，因?yàn)槌晒εc努力直接相關(guān)，就像農(nóng)業(yè)一樣,。需要耐心,，因?yàn)楣こ處煴仨氂薪鉀Q問題的勇氣。最后,，就像管弦樂隊(duì)一樣,，這個(gè)行業(yè)需要團(tuán)隊(duì)合作。如果管弦樂隊(duì)中的一位演奏者犯了錯(cuò)誤,，音樂的聲音就會改變,。這同樣適用于半導(dǎo)體行業(yè)。任何過程中的一個(gè)錯(cuò)誤意味著產(chǎn)品已失敗,。半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)的公式是1000-1＝0,，而不是1000-1≠999。

因此,，只有訓(xùn)練有素的專家才能在該行業(yè)工作,。但與此同時(shí)，該行業(yè)提供了大量機(jī)會,，這些機(jī)會幫助該行業(yè)引領(lǐng)世界變革,。我希望在半導(dǎo)體材料,、零部件和設(shè)備行業(yè)工作的你們,，以及立志成為世界上最好的半導(dǎo)體專家的年輕人，繼續(xù)為自己的夢想而奮斗,。